Siemens Custom IC Design 2025(原名 Tanner Tools 套件,包含 S-Edit、L-Edit、T-Spice 及相关模块)是西门子 EDA 推出的先进模拟/混合信号及定制 IC 设计环境。该版本(2025 年底发布)在 2024.3 版本从 Tanner 更名为 Custom IC Design 的基础上,提供面向 FinFET、平面模拟、MEMS、光子学及混合信号设计的企业级流程。软件支持广泛的晶圆厂工艺(涵盖先进节点)、OpenAccess 数据库集成、原理图驱动的版图以及与 Calibre 的紧密验证链接。
一、核心功能
1. S-Edit 原理图捕获
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增强复杂混合信号 IC 的设计输入
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改进的文本编辑器:支持行号、空白字符处理、正则表达式搜索
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与 T-Spice、AFS、Eldo 无缝仿真设置
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与 L-Edit 紧密集成,实现原理图驱动版图及 Calibre LVS/PEX
2. L-Edit IC 版图编辑器
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支持 FinFET/平面技术的高层次全定制版图
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原理图驱动与手动编辑双模式
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多用户编辑,支持隐式单元锁定
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直接支持 OpenAccess/iPDK
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Python/TCL/C++ 脚本自动化
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集成 Calibre RealTime,提供版图内 DRC 实时反馈
3. 库管理器与 PDK 支持
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来自 41+ 家晶圆厂的认证 PDK(总计 266+ PDK)
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轻松管理工艺文件、单元和库
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光子学与 MEMS 扩展,支持专业设计
4. 仿真与验证集成
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工作流链接至 T-Spice(内置 SPICE 仿真器)、Analog FastSPICE、Eldo
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Calibre nmDRC/LVS/PEX 物理验证
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支持左移验证与高精度模拟签核
5. 可用性与性能增强
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现代化界面
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大型设计加载与处理速度提升
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通过 Siemens Advanced Licensing Technology 改进许可管理
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复杂层次与多技术项目的处理优化
6. 光子学与 MEMS 设计扩展
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以版图为中心、原理图驱动及 Python 脚本化的光子学流程
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面向传感器/执行器的 MEMS 模型创建与实现工具
7. 通用工作流改进
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企业级协作能力
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通过直接导入晶圆厂文件减少设置时间
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针对模拟、射频、混合信号及定制数字设计的生产力优化
二、适用行业与企业
| 行业/领域 | 应用场景 |
|---|---|
| 半导体设计 | 定制模拟/混合信号 IC、FinFET 设计 |
| MEMS 传感器 | 微机电系统设计与仿真 |
| 光子集成电路 | 光子 IC 布局与流程设计 |
| 汽车电子 | 高可靠性模拟芯片设计 |
| 消费电子 | 电源管理芯片、信号调理电路 |
| 学术科研 | 集成电路设计教学与原型验证 |
Siemens Custom IC Design 适合模拟 IC 设计工程师、MEMS 设计人员、光子学工程师及半导体研究人员使用。
三、软件优势
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全流程覆盖:从原理图设计、版图编辑到仿真验证的一体化环境
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广泛 PDK 支持:41+ 晶圆厂、266+ PDK,覆盖主流与先进工艺
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多用户协作:支持团队并行设计,隐式单元锁定避免冲突
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脚本自动化:Python、TCL、C++ 多语言 API 支持定制流程
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实时验证:集成 Calibre RealTime,版图内即时 DRC 反馈
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专业扩展:提供 MEMS 与光子学设计专项工具
四、典型使用场景
场景一:定制模拟 IC 设计
使用 S-Edit 完成原理图设计,L-Edit 进行版图绘制,T-Spice 仿真验证,最终通过 Calibre 完成物理验证。
场景二:MEMS 传感器设计
利用 MEMS 扩展工具创建传感器模型,完成版图设计并与 ASIC 电路协同仿真。
场景三:光子集成电路设计
通过光子学扩展模块,以版图为中心或 Python 脚本化方式进行光子 IC 布局与验证。
场景四:多用户团队协作
多个设计工程师同时在同一项目上工作,利用隐式单元锁定机制避免冲突,提升团队效率。
五、总结
Siemens Custom IC Design 2025(原 Tanner Tools)是一款面向模拟/混合信号及定制 IC 设计的完整 EDA 解决方案,集成原理图捕获、版图编辑、仿真验证及 MEMS/光子学扩展。其广泛的 PDK 支持、多用户协作能力及脚本自动化特性,帮助半导体设计团队高效完成从概念到签核的全流程设计。该软件适用于模拟 IC、MEMS、光子学及混合信号芯片的开发与验证。

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